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2026年HoFCVD薄膜装备与应用技术大会暨第十二届全球热丝CVD大会圆满闭幕

发布时间:2026年6月15日 来源:中国真空学会

2026HoFCVD薄膜装备与应用技术大会

暨第十二届全球热丝CVD大会圆满闭幕

——海内外学术界、产业界、金融界和政府等齐聚一堂共话热丝CVD技术前沿与高端装备产业化突破

2026年 67日至9日,2026HoFCVD薄膜装备与应用技术大会暨第十二届全球热丝CVD大会(2026HoFCVD Thin-Film Equipment and application technology conference&The 12th International Conference on Hot-Wire CVD)在中国江西省共青城市举行,本次大会由中国真空学会作为指导单位,由江西汉可智能装备有限公司、德国于利希研究中心、江苏省真空学会、南京航空航天大学联合主办,中国真空学会电子材料与器件专委会为承办单位之一

本届大会主席由南京航空航天大学教授、亚太材料科学院院士、江西汉可智能装备有限公司首席科学家沈鸿烈担任,热丝CVD技术开创者、日本JAIST(北陆先端科学技术大学院大学)名誉教授松村英树(Hideki Matsumura)担任荣誉主席,江西汉可智能装备有限公司董事长黄海宾和德国于利希研究中心Alexander Eberst担任共同主席。

会议吸引了来自加拿大、德国、荷兰、日本、韩国、印度等国家和地区的近30名国际专家学者及产业工程技术人员参会。会议采用线上线下相结合的形式,总参会人数达2.5万人次。大会聚焦热丝化学气相沉积(Hot-wire CVD,亦称Cat-CVD/HWCVD/HoFCVD)技术前沿,围绕科学问题与产业化应用展开深度学术交流,旨在为全球高端薄膜材料创新与高端智能装备制造产业发展注入新动能。

8日上午举行的开幕式上,大会主席沈鸿烈教授、江西汉可智能装备有限公司董事长兼CTO黄海宾博士、中国真空学会副秘书长杨海涛研究员、江苏省真空学会秘书长王琦龙教授、中国真空学会电子材料与器件专委会秘书长王明研究员,以及江苏省材料学会秘书长强星高工先后发表致辞。海内外行业组织及企业负责人共同强调了热丝CVD技术在半导体、显示、新能源等战略性新兴领域不可替代的产业链核心价值,并呼吁进一步深化国际产学研用融合。

学术报告期间,松村英树教授作了题为《催化化学气相沉积技术(热丝CVD)的过去成就、现状与光明前景》的大会主旨报告。沈鸿烈教授详细阐述了汉可公司HoFCVD技术在薄膜制备与器件研制中的最新产业应用成果,展示了我国在高端真空薄膜沉积装备领域的自主研发成效。

围绕热丝CVD装备前沿技术与规模化应用,本届大会亮点纷呈。在国际顶尖学术报告环节,韩国科学技术院(KAIST)讲座教授、韩国国家工程院院士任成甲(Sung Gap Im)、印度理工学院及马哈拉施特拉科学院院士Rajiv Dusane教授、加拿大卡尔加里大学侍育君教授、荷兰格罗宁根大学Ranjita Bose副教授、上海交通大学二级教授/特聘教授孙方宏、德国弗劳恩霍夫表面工程与薄膜研究所Volker Sittinger博士、日本北陆先端科学技术大学院大学(JAIST)大平圭介教授等权威专家,围绕功能聚合物薄膜、高性能金刚石涂层工具及硅基涂层大面积沉积等方向分享了前沿成果。在产业界领军报告环节,银河航天电源系统首席科学家张忠卫博士、协鑫集成电池研究院院长翁航、阿特斯嘉兴技术研究院院长吴坚博士、通威太阳能电池研发部长龙巍博士、昆山协鑫光电总经理田清勇、江西汉可智能装备有限公司副总经理刘峰学等企业技术负责人,就热丝CVD在太空光伏、TOPCON/HJT/XBC/钙钛矿电池、显示、半导体热点工业化方向,带来了高质量的学术与产业研判报告。

此外,江西汉可智能装备有限公司王威副教授分享了PTFE薄膜的HoFCVD法制备及其性能的研究,韩国檀国大学崔準桓助理教授展示了基于引发式化学气相沉积的柔性可拉伸聚合物电介质在低压电子器件中的应用,日本九州工业大学和泉亮教授分享了利用钼催化剂产生氢自由基实现金属氧化物低温还原的创新成果,江西汉可智能装备有限公司张磊副教授则报告了基于HoFCVD技术以超过1nm/s速率超低温制备Al2O3薄膜的最新突破,这些成果集中展现了热丝CVD技术在聚合物材料、柔性电子等前沿领域的巨大潜力。

会议期间,与会代表前往江西汉可智能装备有限公司,实地考察了HoFCVD核心生产线及高端薄膜智能装备的研发制造基地。大会压轴举办圆桌交流活动,大会主席沈鸿烈教授、热丝CVD技术奠基人松村英树教授、韩国工程院院士任成甲、江西汉可董事长黄海宾、阿特斯嘉兴研究院院长吴坚,以及华星光电的技术专家张亚军等产学研领军人物同台展开对话,就热丝CVD技术在半导体、显示、光伏等产业的规模化落地路径达成了多项共识。

与会专家一致认为,热丝CVD技术兼具超低温(<200℃)、超高速(镀膜速度>4nm/s)、超大面积(>10m2)均匀沉积等独特技术优势,正成为战略性新兴产业跨越式发展的关键技术利器。

作为全球热丝CVD领域最高规格的学术与产业交流盛会,本届大会的成功举办,不仅向世界集中展示了该技术的最新国际前沿动态,更有力促进了我国本土科技创新企业与全球顶尖科研机构的战略协同,对我国突破高端薄膜装备领域的技术瓶颈、完善新能源材料产业链生态具有重要推动作用。